量产光刻Track设备经理-Fab Litho Track Equipment Manager(J19262)

监控Track机台的缺陷数，识别缺陷根因（如颗粒污染、工艺参数偏移），确保良率达标（如减少缺陷率）；

管理缺陷课团队（包括工程师和技术员），分配任务、提供培训、执行绩效评估及团队建设；

主导光刻缺陷相关项目，推动改进措施（如优化涂胶/显影参数或引入新检测技术），支持良率提升；

跨部门协作，与Scanner设备、整合部门联动，确保全流程缺陷控制。

本科或以上学历，优先考虑微电子学、材料科学、化学工程或相关工程专业； 2.10年以上半导体Track经验，需有光刻工艺或缺陷分析背景，熟悉轨道系统（如涂胶机、显影机）和缺陷检测设备（如KLA工具），其中具备至少1年团队管理经验；

精通缺陷检测原理（如光学或电子束检测）、根因分析工具（如FMEA、8D报告）及数据分析软件（如JMP、Python）；

熟悉光刻轨道设备操作和维护知识，理解工艺参数对缺陷的影响。