光刻工艺研发专家-TD Litho Expert(J20355)

光刻工艺研发与计划制定： 主导存储器研发所需的光刻工艺开发工作，制定并根据研发需求动态调整工艺研发计划，建立并优化工艺条件，保障整体研发进度；

工艺整合与规格制定： 依据工艺整合需求，制定相关工艺规格，主导攻克工艺中存在的技术课题，拓展工艺窗口，提升产品良率及性能；

新材料与机台验证： 引入并评估验证新材料、新机台与新功能，推动工艺成本优化，实现技术迭代与降本增效；

数据分析与知识产权产出： 系统分析工艺数据，定期总结并汇报研发进展，独立撰写技术论文并申请相关专利。

教育背景与专业知识：硕士及以上学历，理工科背景，物理、光学、化工、微电子、材料等理工类相关专业；

专业技能与资格：能使用光刻工艺相关工具完成工艺窗口优化、光学临近效应修正、线宽和套刻的控制与改进，具备光阻评估与验证的实际操作能力；

行业与专业经验：5年以上逻辑或存储半导体行业光刻领域工作经验，有研发工作经历优先；

其他要求：具有流畅的英文阅读和写作能力，能独立阅读国际技术文献并撰写技术报告，具有逻辑表达和组织协调能力，能主导跨部门合作并推动课题闭环。